| 详细介绍: 合理的配置,先进的控制系统;性能稳定可靠,抽速快,生产效率高, 特别适合大批量生产和科研镀制多层精密光学薄膜。其主要技术指标:
1.真空工作室系统
内腔尺寸:宽度X深度X高度=1100X1100X1400mm  真空系统:机械泵--国产2x-70型旋片泵,可根据需要选用进口泵           罗茨泵--国产ZJ-300型罗茨泵,可根据需要选用进口泵           扩散泵--采用两台国产K-500T油扩散泵                    单泵抽速为12500L/S           深冷系统-- 可选配           冷阱 --采用新型紧密水冷冷阱,有效降低扩散泵返油率 真空参数:极限真空  3X10-4Pa
          恢复真空时间:从大气抽至4X10-3Pa时间不大于15分钟
2.工件烘烤装置
采用上烘烤加热方式,多根不锈钢管状加热器作为加热源                             
      温度控制范围:常温到350 ℃         采用PID温度控制系统,加热管功率多组独立可调                                    
      温度分布均匀度:±10℃ 
3.修正板机构:配有可倒式修正板,能进行自动控制
4.工件盘 :   采用整体工件盘,利于提高镀膜精度和均匀性
5.蒸镀系统:             蒸发方式--威特南光新型10KW电子枪;                     亦可使用进口电子枪(如美国telemark, 德国Ferrotec的电子枪)
。                     可选配电阻蒸发源           控制方式--能进行自动或手动两种方式镀膜 6.膜厚监控系统:           晶体膜厚控制仪  --MDC360石英晶体监控仪,亦可选用IC5                            可配单片式、双片式或六片式探头    光学膜厚监控系统--选配 7.充气系统:           质量流量计控制系统。           可选配VCC500压强控制仪 8.电气控制系统:  可实现抽真空和镀膜过程自动控制                  亦可选配触摸屏界面   
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